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开始销售 300mm 晶圆镀膜和显影设备 CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro DICE™ 的通知
主题 产品/服务 红外 可持续发展 活动 灾害信息 通知
兼容300mm晶圆的EVAROS™批量式热处理薄膜沉积系统开始销售通知
主题 产品/服务 IR 可持续发展 事件 灾害信息 通知
开始销售溅射设备 LEXIA™-EX 的通知
主题 产品/服务 红外 可持续发展 活动 灾难信息 通知
用于 300mm 晶圆键合设备的先进激光解键合系统 Ulucus™ LX 开始销售的通知
开始销售用于使用 EUV 曝光进行超精细图案化工艺的 Acrevia™ 气体团簇束系统的通知
开始销售单晶圆沉积设备 Episode™ 1 和 Episode™ 2 DMR 的通知以及 Episode™ 2 QMR 的发布时间表
开始销售用于300mm晶圆制造工艺的Ulucus™ G晶圆减薄设备的通知
开发出激光剥离技术，有助于尖端设备3D安装的技术创新
开始销售第 87 代平板显示器等离子蚀刻设备 PICP™ EX Plus 和 APX 的通知
主题 产品/服务 红外 可持续发展 事件 灾害信息 通知
开发出内存通道孔蚀刻技术，可实现深度10微米、超过400层的3D NAND闪存的超高速和全球变暖潜力降低84%
开始销售清洁设备 CELLESTA™ MS2 的通知
用于 300mm 晶圆键合设备的 Ulucus™ L 激光修边系统开始销售的通知
开始销售用于 300mm 功率器件的 Tactras™-UDEMAE™ 蚀刻系统的通知
用于平板显示器的第 8 代等离子蚀刻系统 PICP™ Pro 开始销售的通知
兼容 300mm 的下一代晶圆探针台 Prexa™ 开始销售通知
开始销售用于高清平板显示器的 PICP™ Pro 等离子蚀刻系统的通知
推出下一代蚀刻设备的 Episode™ UL 平台的通知
开始销售单晶圆清洗设备 CELLESTA™ SCD 的通知
开始销售用于有机EL显示器制造的Elius™500 Pro喷墨绘图设备的通知
单晶圆清洗设备CELLESTA™ Pro SPM开始销售的通知
