taptap点点 单晶圆清洗设备 CELLESTA™ SCD 开始销售通知

　东京威力科创（TEL，东京都港区，总裁：Toshiki Kawai）开发出单晶圆清洗设备 CELLESTA™我们谨通知您，SCD 的销售将于 2021 年 1 月开始。

　CELLESTA系列单晶圆清洗设备广泛应用于半导体制造工艺的清洗工艺。新发布的CELLESTA SCD是在CELLESTA平台上配备专用于超临界干燥室的设备，该平台在量产方面拥有良好的记录。

　传统上，在清洗过程中的干燥过程中使用使用低表面张力的酒精的干燥技术，但随着尖端半导体器件不断变得更小、更多层，干燥过程中的图案倒塌已成为一个主要问题。为了满足这些技术需求，我们开发了一种使用超临界流体的干燥技术，该技术具有零表面张力且不会导致图案倒塌，并将开始作为量产设备进行销售。

通过将配备显着改进的清洗和干燥技术的CELLESTA SCD添加到其单晶圆清洗设备阵容中，TEL将满足半导体制造工艺的先进技术需求，并为半导体行业的进一步发展做出贡献。

　Tokyo Electron 执行官兼 CTSPS BUGM Keiichi Akiyama 表示：“CELLESTA SCD 为尖端设备的后清洗干燥过程中的挑战提供了创新的技术解决方案。我们将继续利用我们的创新技术开发能力，以高附加值产品为尖端设备的技术挑战提出最佳解决方案。”

TEL 将在 SEMICON Japan 2020 Virtual 虚拟展会上推出 CELLESTA SCD。

请致电参观我们的虚拟展位。

期间：2020年12月11日至2021年1月15日

CELLESTA 是东京电子集团在日本和其他国家的注册商标或商标。