taptap点点 开始销售溅射设备LEXIA™-EX的通知
东京电子（东京都港区电话，总裁：Toshiki Kawai）很高兴地宣布开始销售溅射设备 LEXIA™-EX。
LEXIA™-EX是一款高性能、高生产率的溅射系统，继承了下一代存储器领域培育的技术，适用于先进逻辑、DRAM和3D NAND等各种应用。
十多年来，自发布具有前所未有的独特产品概念的溅射系统EXIM™以来，我们公司一直致力于尖端半导体的大规模生产。特别是在下一代存储器的溅射工艺中，世界最高水平的产品性能和设备的稳定运行以及为其提供支持的周到服务受到好评，确立了量产设备的牢固地位。
LEXIA™-EX 结合了 EXIM™ 的特点，即使用超高真空室实现膜厚度、膜质量和膜成分的优异均匀性、高生产率以及允许您选择安装模块数量的设备扩展性。吞吐量高达 100 wph，比之前的型号提高 20% 以上。同时，占地面积比以前的型号小约 40%，并且 CO2排放量减少了 14%。此外，我们还扩大了沉积室的阵容，取代了传统的 4 阴极*1dPVD 配备一个腔室和两个超大阴极，可实现高生产率*2我们开发了（双PVC）室。这使得单层厚膜工艺能够高效、均匀地形成薄膜，例如用于 DRAM 电容器的下一代硬掩模和用于高级逻辑的功能薄膜。
Tokyo Electron 执行官兼 TFF BUGM Nakatani Shigeki 表示：“LEXIA™-EX 保持了以前型号的基本理念，即实现高生产率和设备可扩展性，同时实现高环保性能和显着减少占地面积。它正在广泛应用于先进逻辑和存储器的应用中，我们将继续提供根据客户需求量身定制的广泛产品阵容。”
*1 阴极：附着成膜材料的电极
*2：PVD：物理气相沉积
LEXIA 和 EXIM 是东京电子集团在日本和其他国家的注册商标或商标。
有关产品购买的查询
