taptap点点 开始销售用于使用 EUV 曝光进行超精细图案化工艺的 Acrevia™ 气体团簇束系统的通知

　Tokyo Electron（电话，东京港区，总裁：Toshiki Kawai）宣布收购 Acrevia，这是一种使用 EUV 曝光进行超精细图案化工艺的气体团簇束系统。^TM”。

　Acrevia 是一种在使用 EUV 曝光的超精细图案化工艺中使用气体团簇束 (GCB) 处理线宽并校正形状的设备。基于我们独特的GCB技术，我们能够实现以前不可能实现的低损伤加工，有助于客户设备的小型化、提高良率并降低EUV图案化工艺的成本。该设备在EUV曝光和随后的蚀刻加工后，通过从任意角度用直光束照射图案来进行极精细的线宽加工和形状校正。此外，我们专有的软件技术LSP（位置特定处理）新配备了扫描晶圆表面光束照射点的机构，可实现任意处理控制。同时，可以改善图案侧壁粗糙度（LER：线边缘粗糙度），优化曝光工艺并减少可能导致良率下降的缺陷。

Tokyo Electron DSS BUGM 的 Hiroshi Ishida 表示：“Acrevia 配备了我们的专有技术，能够实现高蚀刻率和低损伤的图案处理，将在日益困难的尖端图案化中实现进一步小型化并最大限度地提高生产率。我们将继续开发超出客户期望的技术，并为设备的发展做出贡献。”

*气体团簇束：通过气体分子的结合和团聚，在具有高能量的同时抑制表面损伤的技术

Acrevia 是东京电子集团在日本和其他国家的注册商标或商标。