taptap点点 SPIE 光掩模技术 + 极紫外光刻 2025
活动摘要
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活动日期
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2025.09.22〜2025.09.25
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地点
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加利福尼亚州蒙特利
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目标
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工艺工程师
SPIE光掩模技术+极紫外光刻2025将于9月22日至25日在美国加利福尼亚州蒙特雷举行！会议重点讨论半导体制造和 EUV 光刻、图案化技术、计量和工艺集成。
东京电子 (TEL) 正在利用其广泛的半导体制造设备（包括涂布机/显影机）来推进小型化技术。 TEL将就最新研究成果进行5场演讲，其中包括共同撰写的项目！
Jennifer Church 也将作为女性光学网络午餐会的特邀演讲者登台！期待交流机会！
◆光学网络午餐中的女性
2025 年 9 月 24 日 • 中午 12:00 - 下午 1:00（太平洋夏令时间）|蒙特雷会议科尔顿中心 3
通过非正式的社交午餐与半导体行业的其他女性进行交流。从我们的特色演讲者那里分享他们的职业旅程并提供宝贵的建议，以支持您在这个充满活力的领域的职业发展，从中获得见解。
特色演讲者
维琪·菲利普森 (imec)
安娜·奇库拉耶娃 (Lasertec)
英迪拉·塞沙德里 (IBM)
詹妮弗教堂（电话）
◆与合著者的演讲
高数值孔径 EUV 中接触孔印刷适性的优化
2025 年 9 月 22 日 • 太平洋夏令时下午 4:50 - 5:05 |蒙特雷会议斯坦贝克中心 3
基于涂布机/显影机的图案化工艺技术，以实现高数值孔径极紫外光刻的紧密间距
2025 年 9 月 22 日 • 下午 6:00 - 晚上 7:30（太平洋夏令时间）|蒙特利万豪酒店，圣卡洛斯三世/四世
在极紫外光刻中扩展抗蚀剂材料可行性的整体方法
2025 年 9 月 22 日 • 下午 6:00 - 晚上 7:30（太平洋夏令时间）|蒙特利万豪酒店，圣卡洛斯三世/四世
用于增强现实应用的高质量 SRG 波导的制造可行性
2025 年 9 月 24 日 • 太平洋夏令时下午 2:05 - 2:20 |蒙特雷会议斯坦贝克中心 2
EUV 光刻胶高级显影剂的计算指导配方
2025 年 9 月 25 日 • 太平洋夏令时间上午 9:20 - 9:35 |蒙特雷会议斯坦贝克中心 3
