
硬掩模
ALPHA-8SE™i
200mm以下晶圆的间歇式热处理成膜设备。除了提高设备稳定、连续运行的可操作性和功能外,它还符合全球安全标准。
光刻胶涂层和显影
清洁轨道™ ACT™8Z
兼容75-200mm晶圆的镀膜和显影设备兼容各种基板(Si、GaAs、GaN、SiC、Thin & Thick等)。也可形成SOD涂层膜。
牛蚀原位灰
UNITY™ Me+ / DRM 室
100-200mm晶圆的等离子刻蚀设备。在批量生产线上实现高性价比,并实现卓越的生产率和高可靠性。
硅沟槽蚀刻
UNITY™ Me+ / UD 室
100-200mm晶圆的等离子蚀刻设备。在批量生产线上实现高性价比,并实现卓越的生产率和高可靠性。
热栅极氧化物
ALPHA-8SE™i
200mm以下晶圆的间歇式热处理成膜设备。除了提高设备稳定、连续运行的可操作性和功能外,它还符合全球安全标准。
多晶硅
ALPHA-8SE™i
200mm以下晶圆的间歇式热处理成膜设备。除了提高设备稳定、连续运行的可操作性和功能外,它还符合全球安全标准。
批量喷淋清洗
ZETA™+
300/200mm晶圆全自动批量喷淋清洗设备。兼容配备mini-en机构的FOUP/SMIF,可提供最佳的运输清洁环境,并且还提供低成本的半自动规格。
洗涤器
NS300+ 200mm 转换
与200mm/150mm晶圆兼容的洗涤器清洁设备。搭载300mm新一代器件的清洗工艺技术,实现高可靠性和生产率。