taptap点点 涂布机/显影机ACT™系列

CLEAN TRACK™ ACT™ 12 是一款与 200/300mm 晶圆工艺兼容的涂层和显影系统。该设备可实现稳定、先进的工艺加工，实现从研发到量产的顺利发展。当与曝光设备串联使用时，它占地面积小，并通过提高传输速度实现高吞吐量。此外，每个组件的可靠性都得到了提高，维护变得更加容易，正常运行时间也得到了延长。此外，我们还应用化学过滤器和高精度烘箱来支持 DUV 工艺。

CLEAN TRACK™ ACT™ 12 SOD 是一款 SOD（旋涂电介质）涂覆装置，可完成低 k 电介质的涂覆、烘烤和固化等部分工作。通过优化我们独特的装置，实现了与各种 SOD 材料（有机、无机、混合、多孔膜等）的兼容性。此外，它配备了可以在低氧浓度气氛下进行高温处理的热板，使得可以执行以前使用炉子进行的固化过程。

CLEAN TRACK™ ACT™ 8Z 是一款与 75-200mm 晶圆工艺兼容的涂层和显影系统。
它于 2023 年发布，作为 CLEAN TRACK™ ACT™ 8 的更新设备，在市场上拥有高可靠性。不仅能够实现稳定的工艺性能以及从研发到量产的顺利发展，还能够从CLEAN TRACK™ ACT™ 8进行工艺追踪。此外，通过对最新的300mm型号进行反向工程，进行了多项改进，以提高生产率和可操作性。

我们还可以处理SOD（旋涂电介质）涂层，这是涂覆、烘烤和固化低k电介质的一部分。通过优化我们独特的装置，实现了与各种 SOD 材料（有机、无机、混合、多孔膜等）的兼容性。此外，它配备了可以在低氧浓度气氛下进行高温处理的热板，使得可以执行以前使用炉子进行的固化过程。

CLEAN TRACK™ ACT™ M 是一款高性能设备，配备用于光掩模抗蚀剂涂覆、显影和烘烤的基本模块。随着小型化的进展，OPC（光学邻近校正）、相移掩模和化学放大抗蚀剂逐渐普及，半导体光掩模的制造过程需要先进的工艺控制。该设备基于TEL多年积累的半导体和FPD涂层和显影技术而开发，并采用CLEAN TRACK™ ACT™平台，实现了高工艺性能和高可靠性。