taptap点点洗涤EXPEDIUS™ 系列

多年来在半导体生产现场得到广泛认可的高性价比批量清洗设备

EXPEDIUS™系列是批量式自动湿式清洗系统，一次最多可批量处理50片晶圆，并通过多个处理槽配置提供各种类型的化学处理。除了氧化预扩散清洗、蚀刻后清洗、抗蚀剂剥离等传统应用外，还实现了需求快速增长的3D NAND高选择性氧化物/氮化物湿法蚀刻等新功能，且占地面积小、生产率高。

EXPEDIUS™ -i

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EXPEDIUS™ -i是一款用于 300mm 晶圆的批量清洗系统，基于 TEL 的自动湿站 EXPEDIUS™+，专门用于进一步提高工艺性能和生产率。在适应45nm及以上节点微细加工工艺量产工艺的同时，与传统设备相比，吞吐量提升了150%，实现了每小时1000片的极高产能和较低的CoO（总拥有成本）。针对工艺性能要求特别高的清洗工艺，对化学处理槽、纯水漂洗槽、干燥机构的规格进行了优化，提高了清洗性能和抗剥离性能。此外，选择性刻蚀工艺技术可以显着提高刻蚀过程的可控性和稳定性。 EXPEDIUS™ -i，我们进一步改进了干燥功能，使其成为防止脆弱结构中的图案倒塌的理想选择，并成功地显着缩短了工艺处理时间，从而实现了高生产率的序列。