taptap点点 东京电子宫城新开发大楼竣工通知

　东京威力科创（TEL，东京都港区，总裁：河合敏树）很高兴地宣布，其开发和制造子公司东京威力科创宫城（宫城县大和町）正在建设的新开发大楼（名称：第三开发大楼）已经竣​​工，并于今天举行了竣工仪式。

　由于向数字社会过渡带来的技术创新，预计未来半导体市场将大幅增长。东京电子宫城开发和制造的蚀刻设备是一种图案化技术，随着半导体线宽变得更小、半导体变得更加多样化和复杂化，它被反复用作技术创新的关键。^*进化。

　为了实现下一代发展的理想状态，新开发大楼不仅要进行安全优先、质量优先、环境优先的开发，还要利用数字技术推动开发，进行高效的开发运作。通过及时为客户提供高附加值、高质量的产品，我们将为中长期的可持续增长和社会发展做出贡献。

　我们将继续不断追求最好的产品和最好的技术服务，并与我们的客户一起，继续追求对于实现数字化和脱碳至关重要的半导体技术创新。

TEL是全球唯一一家拥有适用于成膜、涂布/显影、蚀刻和清洗这四个关键连续图案化工艺的产品的半导体制造设备制造商。

＜新大楼概况＞
位置：宫城县黑川郡大和町 1 Techno Hills
总建筑面积：约46,000㎡ *不含附属设备面积
结构：钢结构/全隔震结构
层数：地上3层
开工时间：2023 年 6 月
建设成本：约520亿日元
用途：等离子蚀刻设备等半导体制造设备的开发

＜东京电子宫城事业概要＞
总公司（大和办事处）：宫城县黑川郡大和町 Techno Hills 1 号
营业所：保坂
业务描述：等离子刻蚀设备的开发和制造