taptap点点 东京电子技术解决方案新开发大楼竣工通知

　东京威力科创（东京都港区电话，总裁：河合俊树）很高兴地宣布，其在其开发和制造子公司东京威力科创技术解决方案保坂办事处（山梨县韭崎市）正在建设的新开发大楼已竣工，并于今天举行了竣工仪式。

　由于向数字社会过渡带来的技术创新，预计未来半导体市场将大幅增长。东京电子技术解决方案公司开发和制造的产品阵容基于图案化技术，随着半导体线宽变得更小、半导体变得更加多样化和复杂化，该技术被反复用作技术创新的关键。^*进化。随着新开发大楼的落成，我们将进一步增强技术开发能力，及时提供市场和客户所需功能的产品，为中长期的可持续增长和社会发展做出贡献。

　我们公司将继续不断追求最好的产品和最好的技术服务，并与我们的客户一起追求对实现数字化和脱碳至关重要的半导体技术创新。此外，在今年庆祝我们成立60周年之际，我们将这一转折点视为“新起点”，将继续接受进一步的挑战和发展，为充满梦想的社会的发展做出贡献。

^{*TEL是全球唯一一家拥有成膜、涂布/显影、蚀刻和清洗四大关键连续图形工艺产品的半导体制造设备制造商。}

＜新开发大楼概览＞
位置：山梨县韭崎市保坂町三泽 650
总建筑面积：约。 21,000平方米
结构：钢结构/隔震结构
层数：地上4层，地下1层
开工/竣工：2021 年 12 月/2023 年 6 月
应用：薄膜沉积设备、气体化学蚀刻设备、图案化技术、工艺集成等半导体制造设备的开发

<关于东京电子技术解决方案业务概述>
总公司（藤井办事处）：山梨县韭崎市藤井町北下条2381-1
营业所：保坂、东北、府中、名古屋卫星
业务描述：热处理薄膜沉积设备、单晶圆沉积设备、气体化学刻蚀设备、测试系统、FPD等离子刻蚀/灰化设备的开发与制造