taptap点点 SPIE 高级光刻 + 图案化 2025
活动摘要
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活动日期
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2025.02.23〜2025.02.27
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地点
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加利福尼亚州圣何塞
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目标
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工艺工程师
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025 将于 2 月 23 日至 27 日在美国加利福尼亚州圣何塞举行！
随着人工智能、自动驾驶、AR/VR 等新应用的兴起，预计到 2030 年，半导体市场将超过 1 万亿美元。为了实现这一显着增长，技术创新正在沿着两个轴前进：微缩（半导体的代名词）和异构集成（新的驱动力）。为了进一步发展制造技术，东京电子（TEL）将在本次会议上与合作伙伴公司一起举办 19 场演讲，其中包括 8 场特邀演讲和海报！
TEL的优势在于其全球领先的技术创新，在EUV曝光镀膜和显影设备方面几乎占据100%的市场份额，拥有23,249项专利（截至2024年3月），在半导体制造设备行业排名第一。
期待 TEL 专家员工在 SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025 上的演讲！
#TechnologyEnablingLife
