taptap点点 2019年5月28日中期经营计划说明会问答集
虽然WFE市场目前处于回调阶段,但我们的观点与去年持平,即中长期将超过$60B。然而,当WFE市场与金融模型联系起来时,讨论的焦点就变成了市场份额而不是盈利能力。此外,随着未来HPC等新需求的出现,我们宣布了一种专注于营业利润率而不是WFE市场份额的模型,表达了我们对能够通过集成我们的技术来创建新的SAM的热情。
至于财务模型的期限,去年宣布的模型目标是下一财年 FY2021。今年,我们决定不像去年那样宣布 2021 财年的模型,而是更好地展示我们在未来五年内的盈利目标。
同时,去年我们为 ROE 目标设定了 30-35% 的范围,但这次我们取消了上限,并将其改为“30% 或更高”。这次我们的信息是实现 30% 或更高的 ROE,同时不时考虑增长投资和现金使用。
它是大约 4 周前创建的,因此可以说这些数字几乎是最新的。当然,我们以WFE趋势作为参考,但对于未来一年,我们可以根据我们掌握的客户信息,通过积累投资规模,做出更准确的SAM预测。市场调整、中美贸易摩擦等因素难以预测,也没有考虑在内。不过,由于中国本土制造商的投资规模还不算大,我们预计未来两三年内中美贸易摩擦的影响不会很大。
与去年宣布的目标值相比没有太大变化。
大约一半想要获得复杂服务合同的客户已经拥有某种复杂服务合同。然而,只有不到 10% 的企业仍然能够连接提供高附加值的复杂服务,例如使用 AI 的 TELeMetrics™ 和正常运行时间保证。
按绩效付费服务的条件根据与客户签订的合同而有所不同,但如果我们无法实现,我们公司将必须承担费用,例如延长保修期。
虽然很难预测,但我们目前预计客户将在 CY2019Q3(7 月至 9 月)左右开始采取行动。
由于内存市场疲软,2019 年 HARC 工艺销售额将下降。
当然,30% 似乎是现状,但这并不意味着我们高估了下行风险。今年,由于商业环境恶劣,市场规模和HARC工艺销售额都将下降,预计CY2019将保持在30%。然而,从长远来看,我们希望通过 HARC 工艺和图案化工艺的发展将这一数字提高到近 35%。
我们正在开发配备 HARC 工艺新功能的设备。我们的目标是通过 128 层 3D NAND 一代及以后的新设备获得渠道工艺的市场份额。
旨在通过同时满足处理性能和生产率的提案赢得 POR。各个进程的份额未公开。
虽然层数增加了一倍,但蚀刻生产率随着孔变深而降低,因此工艺时间将略长于两倍。
SAM 预测基于以下假设:从 25X 一代开始,所有客户都将拥有两层堆栈。
这是考虑了增长投资、营运资本以及我们对未来增长的信心的结果。我们还认为,我们公司的潜力并没有完全反映在我们目前的股价中,因此我们决定实施股票回购。
未来的现金状况会根据情况而变化,例如在预计大幅增长的阶段需要增加采购量。灵活考虑股票回购的政策没有变化。
我预计调整后的营业利润将分配给 1) 发展和增长投资,2) 股东回报,3) 员工和营运资本回报,各约占 1/3。
正如我之前所说,股价也是考虑股票回购的一个重要因素。由于半导体行业有一定的周期,我们认为与其每年回购相同数量的股票,不如在形势有效、股价水平有效的情况下以有效规模回购股票更为合适。我们愿意继续考虑以灵活的方式实施。
WFE(晶圆厂设备):半导体前端制造设备。半导体制造工艺包括在晶圆上形成电路并进行测试的前工艺以及将晶圆切割成芯片并进行组装和测试的后工艺。半导体前端制造设备就是用于该前端工艺的制造设备。半导体前端制造设备还包括晶圆级封装设备。
SAM:服务于可用市场
HARC(高深宽比接触)工艺:需要先进加工技术的深孔成形工艺
POR(记录过程):客户半导体制造过程中设备采用的认证
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