taptap点点 2024 财年第四季度财务业绩简报问答
2025 年的前景没有变化,我们预计将实现两位数增长,与三个月前相同。 2025年,我们预计人工智能相关领域尤其会增长,我们期待尖端的逻辑和存储器。
我们的销售预测基于从客户处收到的投资计划。现阶段,我们预计尖端和下一代领域不会对2025财年的NAND销售产生影响。
另一方面,2025 财年下半年将增长约 47%。上半年毛利率比下半年好,原因何在?
2025 财年上半年,由于成本增加以及产品结构的影响,毛利率将较上年下半年有所下降。
2025财年下半年,随着高附加值产品的销售构成比例增加,毛利率将提高,引入机会增加。
基于我们进行研发以最大限度地提高增长潜力的政策,我们没有为销售比率设定上限或一定水平。如果能够期待足够的回报,我们就会加大研发投入。
我们着眼于中期管理计划及后续计划,并与客户分享未来四代的技术路线图。基于此,如果有机会扩展SAM*3或有望产生高回报并惠及客户和利益相关者的高附加值产品,我们将投资开发。
正如简报第16页所述,未来的研发成本将主要集中在低温刻蚀、导体刻蚀、单晶圆ALD、新型涂布机/显影机平台以及尖端光刻表面处理技术上。此外,在先进封装技术方面,我们希望完善用于EUV和高密度3D封装的Wafer to Wafer和Die to Wafer键合技术、激光剥离以及超平坦晶圆制造技术。
我们的股票回购政策是灵活实施。综合考虑市场状况、未来现金、股东分红、总回报金额等因素后,我们决定回购800亿日元的自有股票。我们充分意识到对于股价存在各种看法,但考虑到我们未来的增长并确定我们可以预期企业价值进一步增加,我们决定在此时实施这一举措。
我能够在逻辑接线过程中获得POR*⁴。
我们希望我们的低温刻蚀设备能够用于400层一代的NAND。对于400层一代,将从2025年开始小批量生产,从2026年开始量产。使用低温蚀刻的小规模生产将于 2025 年开始,大规模生产将于 2026 年开始。目前,评估工作进展顺利,有望量产采用。我们相信,从超过 400 层的世代开始,我们的技术不仅在工艺性能方面,而且在生产率和环境性能方面都将非常优越。
我们估计干抗蚀剂可能会取代整个涂料和显影市场的约 5%。我们公司正在开发各种方法,但我们正在考虑的主要方法是一种特殊的湿法,它是传统方法的演变。我们目前正在评估这种方法,重点是防止图案塌陷,并且目前看到了良好的结果。
混合键合有两种类型。第一个是晶圆到晶圆。我公司在CMOS图像传感器领域拥有较高的市场份额。对于NAND来说,有一个将其与外围电路粘合的过程,我们预计它会在未来两到三年内上市。预计 3 到 4 年内,背面 PDN*⁵ 的逻辑将比 NAND 稍慢。另一方面,我们认识到第二种技术Die to Wafer仍然是未来的技术,我们相信在背面PDN之后将会出现对它的需求。
在 Die to Wafer 领域,我们相信通过利用我们多样化的技术,我们可以提供许多差异化和高附加值的技术。然而,我们很难独自处理所有事情,因此我们目前正在考虑是否可以与合作伙伴公司合作,为客户提供高附加值的产品。
中国的投资仍在继续,特别是在成熟一代中,预计 2025 财年的投资金额将与 2024 财年持平。然而,由于其他地区对尖端设备的投资增加,预计2025财年中国的销售比例将降至40%以下。似乎有一些紧急订单。作为一家公司,我们无法对监管的未来走向发表评论,我们的政策仍然是对日本政府的指导方针做出适当反应,并继续密切关注趋势。
WFE(晶圆厂设备):半导体前端制造设备。半导体制造工艺包括在晶圆上形成电路并进行测试的前工艺以及将晶圆切割成芯片并进行组装和测试的后工艺。半导体前端制造设备就是用于该前端工艺的制造设备。此外,半导体前端制造设备还包括晶圆级封装设备
HARC:高纵横比联系人
SAM:服务的可用市场
POR(记录过程):客户半导体制造过程中设备采用的认证
PDN(供电网络):为有源器件高效供电和参考电压而设计
2024 财年是指从 2023 年 4 月到 2024 年 3 月的财政年度。
2025 财年是指从 2024 年 4 月到 2025 年 3 月的财政年度。
此内容是问题和答案的摘要。