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taptap点点 截至 2021 年 3 月的财年第二季度的问答环节

请告诉我们 2021 年 WFE*1 市场的前景。

在财务业绩发布会上,我说过 2021 年将是重要的一年。尽管我们需要密切关注新型冠状病毒感染和地缘政治风险,但我们认为2021年的WFE市场仍将超过2020年的历史新高。我们预计 2022 年将进一步增长。这样,我们预计 2021 年和 2022 年将是重要的年份。
2021年后WFE市场的增长需要关注三点:DRAM的供需平衡、10nm/7nm/5nm MPU和GPU的发布时机以及数据中心和5G移动的投资趋势。目前,我们预计 2021 年第一季度 DRAM 供需平衡将有所改善。我们还可以预期对 10nm/7nm/5nm MPU 和 GPU 的需求。

我想定量了解 2021 年 WFE 市场规模和驱动应用。另外,据说从CY2021Q1开始,DRAM供需平衡将会改善,但DRAM投资何时才能恢复?

目前很难对 2021 年 WFE 市场规模给出定量答案,因为受新型冠状病毒感染和地缘政治风险的影响,各客户公司的投资时机可能会略有延迟。然而,从中期来看,正如中期管理计划所示,WFE 市场将在 CY2023 年达到 $65-$70B 的前景没有变化。
2021 年,我们认为 5G 基础设施的逻辑/代工投资以及数据中心的 DRAM 投资将会增加。我们认为DRAM投资将从CY2021Q1下半年开始逐渐恢复。

请告诉我们 2021 年中国 WFE 市场的前景。您期望中国本土客户投资多少?

我们预计 2021 年也会有中国本土客户的投资,但我们需要密切关注地缘政治风险的影响,因此目前无法给出定量答案。然而,随着信息通信技术在世界各地的大力实施,半导体的重要性日益增加,无论在哪里,投资都将持续下去。为了满足这一需求,我们认为保持世界领先的技术创新能力非常重要。

哪些因素导致上半年SPE销售额超出预期?

主要因素是设备交付和启动进展顺利,以及部分客户提前投资5G基础设施。

我想问一下美国出口限制对中国的影响。尽管我认为监管对中国最大代工厂的影响将在2021财年下半年感受到,但全年盈利预测已上调。是否有任何起伏,例如对其他客户的销售额增加?

收益预测包含了当前已识别的各种风险。我不想提供有关客户销售分配的详细答案,因为这可能会推断出客户的投资计划。

我想询问一下毛利率。根据中期经营计划的财务模型,销售额为15万亿日元时,毛利率设定为43%。全年销售额计划达到13万亿日元,但毛利率将维持在402%。我想知道您对未来如何提高毛利率的想法。

中期经营计划的财务模型中有3种情景,主要情景是目标销售额2万亿日元、营业利润率30%。为了实现这一目标,我们积极对生产设备和研发进行前期投资,着眼于中长期增长,而不仅仅是关注当前的数字。我们相信,通过未来销量的增加,固定比率将会下降,利润率将会提高。该计划正在朝着实现其目标稳步推进。

我想了解 2021 财年下半年的销售情况。您预计第四季度的销售额是否会高于第三季度的销售额,与过去的趋势类似?

由于销售计划每半年管理一次,因此半年末第四季度的销售额往往会高于第三季度的销售额。

我想了解你们扩大市场份额的计划。特别是3D NAND的刻蚀进展如何?

我们增加图案工艺市场份额的计划没有改变,以蚀刻为中心,但也包括成膜和清洗。随着 3D NAND 变得更加多层化,HARC 工艺*2 需要高蚀刻速率和形状控制等先进技术。目前,该客户正在投资大规模生产 128 层,但计划扩大其在下一代及更新一代产品中的份额。

国内竞争对手正计划扩大清洁设备市场份额,但竞争环境是否变得更加严峻?我想了解更多有关清洁设备以外的领域的信息。

所有产品总是存在竞争。竞争制造商之间的友好竞争对于行业和客户来说都是积极的。公司以“唯一第一、第一”为目标,快速掌握客户未来所需的技术,将资源集中在高附加值领域,响应客户要求。
半导体要求大容量、高速、低功耗、高可靠性等高性能,需要各种新技术。只要技术不断创新,市场就会增长。我们愿意继续与这个市场上的竞争制造商共同努力。

我想更多地了解札幌办事处,这是你们的软件开发基地。

札幌办事处长期以来一直是软件开发基地。北海道拥有许多优秀的软件工程师,因此札幌也适合获取人力资源。
未来,随着逻辑/代工厂变得小于 5 nm,3D NAND 变得比 200 层更加多层,除了提高设备性能外,还需要对从设备中安装的传感器获得的数据进行数字化和分析。从可持续发展目标的角度来看,数字化也很重要,因为它有助于开发低功耗设备、提高制造产量和延长设备正常运行时间。我们将在负责这一发展的札幌办事处创造更好的环境,并加速发展。

WFE(晶圆厂设备):半导体前端制造设备。半导体制造工艺包括在晶圆上形成电路并进行测试的前工艺以及将晶圆切割成芯片并进行组装和测试的后工艺。半导体前端制造设备就是用于该前端工艺的制造设备。此外,半导体前端制造设备还包括晶圆级封装设备

HARC(高深宽比接触)工艺:需要先进加工技术的深孔成形工艺

此内容是问题和答案的摘要。